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改良传统工艺实现电子清洗废水零排放

文章出处:金沙澳门电子游戏4166作者:小小白发表时间:2021-10-23 14:01

  集成电路是20世纪50年代末到60年代发展起来的一种新型半导体器件。经过氧化、光刻、扩散、外延和铝蒸发等半导体制造工艺后,形成具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件以及它们之间的连接线都集成在一个小硅片上,然后焊接并封装在管壳中。

  在集成电路的制备过程中,为了获得满足清洁度要求的硅片,需要大量的水进行清洗,清洗过程中会产生大量的清洗废水。电子清洗废水主要污染物为高浓度悬浮颗粒物、酸碱污染和重金属离子。金沙澳门电子游戏4166对传统的水解酸化+接触氧化零排放工艺进行了改进。电子清洗废水零排放处理工艺流程如下:

  电子清洗废水进入pH调节槽,控制pH值,以减少中和过程中的化学品量。pH调节池出水进入水解酸化池,经好氧池处理后进入MBR膜池,确保预处理出水水质达标稳定,水质满足后续系统进水要求。MBR膜池出水进入ACF吸附过滤器,出水进入高效反渗透系统,反渗透采出水进入曲线微电导膜分离系统,出水进入UPW过滤池回用。反渗透产生的浓水进入AOP进行催化氧化处理,出水进入极限分离系统进行进一步处理。极限分离系统的气田水进入曲线微电导膜分离系统,其出水与反渗透气田水混合后进入UPW滤池回用。极限分离系统产生的浓水进入ED单元进行处理,其出水进入蒸发单元进行蒸发处理。实现电子清洗废水零排放。

  零排放:一种近零排放处理

 

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